【热点跟踪】重庆鲁汶智慧城市与可持续发展研究院访问离子加速器设备生产公司

发布日期：2020-06-08

2020年6月3日，重庆鲁汶智慧城市与可持续发展研究院（以下简称“智慧院”）领导一行通过“云会议”模式访问了离子加速器设备生产公司。 

“云会议”上，双方领导依次介绍了各自机构的基本情况、创新技术、发展规划等内容，随后双方就国际项目合作展开深入探讨，并达成初步合作意向。

据悉，离子加速器设备生产公司是第三代半导体领域的高新技术企业，该企业的领先技术能推动第三代半导体技术中核心晶圆加工技术。

他们在精准离子注入领域不断突进，开发出能量过滤式离子注入技术及设备。其离子注入技术能降低微芯片成本，实现微芯片设计创新以及提高微芯片性能。技术原理是将离子入射到硅片材料中，引起材料表面成分、结构和性能发生变化，实现个性化的注入以及性能优越的碳化硅外延片，保证高精度外延层掺杂，并使厚度更加均匀。最主要的掺杂工艺，在下游体现为集成电路、IGBT、太阳能电池、AMOLED等，其中低能大束流是最主要的离子注入设备。根据其自主的离子注入技术为芯片制造商提供最优个性化解决方案。

如今，全球日益增加的半导体需求、产线产能的扩充以及技术演进，使离子加速设备将占领更大的市场份额。内地晶圆制造产线的增加，将助推整个半导体设备投资金额的增加以及细分领域离子注入机的快速发展。未来离子注入设备有望成为显著受益国内市场需求发展的赛道。